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PVD 磁控溅射设备
过滤弧镀膜机 FCVA
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等离子体源头及控制单元
微弧氧化电源及设备
高功率HiPIMS技术
射频电源和匹配器
 
  HiPSTER-6BiPolar
产品详细

我们的 HiPSTER BiPolar HiPIMS 装置属于新一代 HiPIMS 技术。 它们由该领域的专家设计,在等离子工艺开发和薄膜沉积方面拥有出色的记录,以生成稳健且可重复的 HiPIMS 工艺。



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