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| 产品名称： |
多靶磁控溅射镀膜设备/镀膜机/系统 PTL5SLL PVD 双腔室 5靶位2英寸共聚焦 |
| 产品简介： |
本系统为双腔室高真空多靶磁控溅射镀膜系统，系统主要由溅射室、进出样室、真空获得及检测系统、样品台及旋转系统、磁控溅射靶、直流/射频溅射电源、加热及温控系统、供气系统、水冷系统、电气控制系统等构成。进出样室配备了一套手动水平磁力杆传输系...... |
| 详细信息 |
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| 产品名称： |
多靶磁控溅射镀膜设备/镀膜机/系统 PTL6SLL PVD 双腔室 6靶位2英寸共聚焦 |
| 产品简介： |
本系统为双腔室高真空多靶磁控溅射镀膜系统，系统主要由溅射室、进出样室、真空获得及检测系统、样品台及旋转系统、磁控溅射靶、直流/射频溅射电源、加热及温控系统、供气系统、水冷系统、电气控制系统等构成。进出样室配备了一套手动水平磁力杆传输系...... |
| 详细信息 |
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| 产品名称： |
多靶磁控溅射镀膜设备/镀膜机/系统 PTL3S PVD 3靶位2英寸共聚焦 |
| 产品简介： |
本系统为双腔室高真空多靶磁控溅射镀膜系统，系统主要由溅射室、真空获得及检测系统、样品台及旋转系统、磁控溅射靶、直流/射频溅射电源、加热及温控系统、供气系统、水冷系统、电气控制系统等构成。
本套设备配置了触摸...... |
| 详细信息 |
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| 产品名称： |
多靶磁控溅射镀膜机/镀膜设备/系统 MS450 PVD 4靶位3英寸共聚焦 |
| 产品简介： |
设备特征：
溅射室极限真空度优于 5×10-5Pa；
稳定的工作气压控制：配备可调节2000步位的插板阀，用于精确控制工作气压以获得稳定的沉积工艺；
灵活的靶基间距调节：通过可...... |
| 详细信息 |
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