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PVD 磁控溅射设备
过滤弧镀膜机 FCVA
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微弧氧化电源及设备
高功率HiPIMS技术
射频电源和匹配器
 
  ta-C非晶钻石膜 / 四面体碳膜镀膜机/镀膜设备/系统 FCVA
产品详细

四面体无定形碳(ta-C)又称非晶钻石膜,由于其极高的硬度、低摩擦系数和耐磨损、化学性质稳定、高电阻率、高导热、耐冲击等特征,在各类工业零部件上得到了广范的应用。


深圳万利福科技有限公司基于过滤真空阴极弧FCVA镀膜技术,自行设计制造真空镀膜设备,该设备适用于ta-C涂层的研发和批量处理:

Ø  配备3FCVA

Ø  配备1磁控溅射

Ø  配备DC /脉冲基片偏压电源

Ø  真空腔室:~F500 mm x 450 mm,双壁水冷不锈钢

Ø  1套抽真空系统包含节流阀,预抽阀,前级阀,涡轮分子泵和前级泵等

Ø  极限真空优于2.0×10-4Pa

Ø  1套真空测量系统,包含1个离子规和2个匹纳尼规

Ø  2套质量流量控制器MFC

Ø  1套4工位公/自转工件架

Ø  触摸屏PLC计算机控制,手动/自动工艺控制


本公司已成功使用过滤阴极真空电弧FCVA涂层系统在各种基材上制备了厚度为0.1微米至5微米以上的 ta-C 涂层。通过万利福获得的 ta-C 膜具有高达70-85%的四面体(sp3)键。ta-C 涂层的硬度高于60GPa,摩擦系数低于~0.1,在10N的载荷力下,磨损率低于<1.5x10e-7 mm3 / m-N。另外,涂层与基材进行洛氏试验能达到HF1粘合性的等级。


ta-C 涂层的应用:

  • PCB 钻头钻针
  • 缝纫部件
  • 精密模具
  • 切削刀具
  • 汽车部件
  • 耐磨部件

ta-C 涂层

在高速钢上镀 ta-C 膜具有强附着力、高硬度、低摩擦系数。
ta-C 涂层
ta-C 涂层



Arc Discharge


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