HIGH POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING (HIPIMS)技术简介

高功率脉冲磁控溅射 (HiPIMS) 原理是利用比较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比来产生高溅射金属离化率的一种磁控溅射技术。HiPIMS的峰值功率可以达到MW级别，但由于脉冲作用时间短，其平均功率与普通磁控溅射一样，这样阴极不会因过热赠增加靶材冷却。HiPIMS高达70%的离化率可以沉积高度致密，均匀，结合力强的薄膜，并能够控制它们的相组成、微观结构以及机械和光学特性。此外，HiPIMS 提高了薄膜的附着力，能够在复杂形状的基板上沉积均匀的薄膜，并降低沉积温度。